www.viniti.ru Всероссийский Институт Научной и Технической Информации
 

База данных PEIS-V больше не обновляется с 1 июня 2018г.

The PEIS-V database is no longer updated from June 1, 2018


Physics Electronic Information Service by VINITI

PEIS-V | Help

   Plasma Physics (including Thermonuclear Fusion).
      Electric discharges (Gas discharges).
         High frequency discharges.
            Low pressure discharges.
Electrical characterization of the flowing afterglow of N2 and N2/O2 microwave plasmas at reduced pressure
J. Afonso Ferreira, L. Stafford, R. Leonelli, A. Ricard
J. Appl. Phys. , Vol: 115, No: 16 , published: 28 April 2014
Special Features of Low-Pressure Discharge Initiated by Microwave Radiation With Stochastic Jumping Phase
Karas V.I., Artamoshkin A.M., Alisov A.F., Bolotov O.V., Golota V.I., Karas I.V., Yegorov A.M., Zagrebelny I.A., Potapenko I.F., Starostin A.N.
IEEE Trans. Plasma Sci., Vol: 41, No: 9 , published: 01 September 2013
Колебательное распределение молекул азота в состоянии C3Πu в приповерхностной СВЧ-плазме в азоте при давлениях 1–5 Торр
Ю. А. Лебедев, И. Л. Эпштейн, Е. В. Юсупова
Физ. плазмы, Vol: 39, No: 2 , published: 01 February 2013
Fluid modelling of capacitively coupled radio-frequency discharges: a review
L. L. Alves and L. Marques
Plasma Phys. and Contr. Fusion, Vol: 54, No: 12 , published: 01 December 2012
Monitoring of hydrocarbon concentrations in dust-producing RF plasmas
F Hempel, D Lopatik, B Sikimic, I Stefanovic, J Winter and J Röpcke
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 21, No: 5 , published: 01 October 2012
Transition from interpulse to afterglow plasmas driven by repetitive short-pulse microwaves in a multicusp magnetic field
Shail Pandey, Debaprasad Sahu, Sudeep Bhattacharjee
Phys. Plasmas, Vol: 19, No: 8 , published: 23 August 2012
High-density polyethylene functionalized by cold plasma and silanes
I. Novák, A. Popelka, I. Krupa, I. Chodák, I. Janigová, T. Nedelčev, M. Špírková, A. Kleinová
Vacuum, Vol: 86, No: 12 , published: 20 July 2012
Стабилизация горения жидкого углеводородного топлива с помощью программированного СВЧ-разряда в дозвуковом воздушном потоке
П. В. Копыл, О. С. Сурконт, В. М. Шибков, Л. В. Шибкова
Физ. плазмы, Vol: 38, No: 6 , published: 01 June 2012
Frequency Scaling Laws of Plasma Bulk in Atmospheric Radio Frequency Discharges
Yuantao T. Zhang and Wanli Shang
Plasma Processes and Polymers, Vol: 9, No: 5 , published: 01 May 2012
rf-power and the ring-mode to red-mode transition in an inductively coupled plasma
J. G. Coffer, J. C. Camparo
J. Appl. Phys. , Vol: 111, No: 8 , published: 15 April 2012
Ion energy distribution measurements in rf and pulsed dc plasma discharges
D. Gahan, S. Daniels, C. Hayden, P. Scullin, D. O'Sullivan, Y. T. Pei and M. B. Hopkins
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 21, No: 2 , published: 07 April 2012
Optical properties and crystallinity of hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) thin films deposited by rf-PECVD
Goh Boon Tong, Zarina Aspanut, Muhamad Rasat Muhamad, Saadah Abdul Rahman
Vacuum, Vol: 86, No: 8 , published: 29 February 2012
Statistical Prediction of Microwave Window Breakdown: Effects of RF Magnetic Field
Sazontov A.G., Nechaev V.E., Vdovicheva N.K.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 2, Vol: 40, No: 2 , published: 23 February 2012
Low Pressure Radio Frequency Ammonia Plasma Surface Modification on Poly(ethylene terephthalate) Films and Fibers: Effect of the Polymer Forming Process
M. Ö. Öteyaka,P. Chevallier,S. Turgeon,L. Robitaille,G. Laroche
Plasma Chem. Plasma Process., Vol: 32, No: 1 , published: 15 February 2012
High rate deposition of microcrystalline silicon films using jet-type inductively coupled plasma chemical vapor deposition
Zewen Zuo, Yu Wang, Jin Lu, Junzhuan Wang, Lin Pu, Yi Shi, Youdou Zheng
Vacuum, Vol: 86, No: 7 , published: 08 February 2012
High Voltage Series Switch and Crowbar Protection in RF Heating
H. K. Patel,Deep Shah,Mauli Thacker,Atman Shah
J. Fusion Energy, Vol: 30, No: 6 , published: 15 December 2011
A new method of measuring the spatial distribution of depletion fraction of silane plasma by mass spectrometer
Wang Zhao-Kui/Lin Kui-Xun/Lin Xuan-Ying/et al.
Chin. Phys., Vol: 14, No: 7 , published: 05 April 2009
The electronic identity of inductive and capacitive plasmas
Burm K.T.A.L.
J. Plasma Phys., Vol: 74, No: 2 , published: 06 November 2008
Порог развития ионизационно-перегревной неустойчивости в плазме безэлектродного СВЧ-разряда
Александров К.В./Бычков Д.В./Грачев Л.П./Есаков И.И.
Ж. техн. физ., Vol: 78, No: 7 , published: 19 October 2008
Относительная предельная плотность плазмы в разрядном канале свободно расширяющихся импульсных сильноточных разрядов в неограниченном плотном газе
Юсупалиев У./Рухадзе К.З.
Кpатк. сообщ. по физ. ФИAН, Vol: 2007, No: 9 , published: 10 August 2008
Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе
Кралькина Е.А.
Успехи физ. наук, Vol: 178, No: 5 , published: 22 May 2008
Direct mass spectrometric study of the ionic species content of a C[2]HCl[3]/He/O[2] microwave discharge plasma
Takahashi S.\Fujii T.
Plasma Chem. Plasma Process., Vol: 27, No: 5 , published: 12 May 2008
К теории сверхвысокочастотного разряда на поверхности диэлектрической антенны
Двинин С.А.\Шибков В.М.\Михеев В.В.
Физ. плазмы, Vol: 32, No: 7 , published: 12 May 2008
Characteristics of VHF H2 plasma produced at high pressure
Yamauchi Y./Takeuchi Y./Takatsuka H./et al.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 48, No: 4 , published: 02 April 2008
Multipactor breakdown prediction in a rectangular waveguide: statistical theory and simulation results
Sazontov A.G./Sazontov V.A./Vdovicheva N.K.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 48, No: 4 , published: 02 April 2008
Электродный микроволновый разряд в постоянном поле
Лебедев Ю.А.\Татаринов А.В.\Эпштейн И.Л.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 45, No: 3 , published: 27 March 2008
Моделирование процессов образования и гибели нейтральных частиц в плазме разряда постоянного тока в смеси аргон_-кислород
Смирнов С.А.\Рыбкин В.В.\Иванов А.Н.\Титов В.А.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 45, No: 3 , published: 27 March 2008
Особенности индуктивного ВЧ-разряда низкого давления. I. Эксперимент
Александров А.Ф.\Вавилин К.В.\Кралькина Е.А.\и др.
Физ. плазмы, Vol: 33, No: 9 , published: 10 February 2008
Особенности индуктивного ВЧ-разряда низкого давления. II Математическое моделирование
Александров А.Ф.\Вавилин К.В.\Кралькина Е.А.\и др.
Физ. плазмы, Vol: 33, No: 9 , published: 10 February 2008
Estimating electrons and ions energes in an RF capacitively-coupled argon discharge
Aflori M.\Ivan L.M.\Mihai-Plugaru M.\Dimitriu D.G.
Rom. J. Phys., Vol: 51, No: 1-2 , published: 21 January 2008
Particle modeling of radiofrequency discharges of SF[6]
Tong Lizhu\Nanbu Kenichi
J. Plasma Phys., Vol: 72, No: 6 , published: 20 January 2008
Characterization of a tubular plasma reactor with external annular electrodes
Petcu C.\Mitu B.\Dunescu G.
Rom. Rep. Phys., Vol: 57, No: 3 , published: 14 January 2008
Разновидности свечения ВЧ разряда в зависимости от влажности воздуха
Протасевич Е.Т.
Ж. техн. физ., Vol: 75, No: 7 , published: 03 January 2008
Влияние колебательного возбуждения молекул CO на характеристики ВЧ-разряда
Ионин А.А.\Синицын Д.В.\Терехов Ю.В.\и др.
Физ. плазмы, Vol: 31, No: 9 , published: 03 January 2008
Свободнолокализованный сверхвысокочастотный разряд в сверхзвуковом потоке газа
Шибков В.М.\Александров А.Ф.\Ершов А.П.\и др.
Физ. плазмы, Vol: 31, No: 9 , published: 03 January 2008
Ионизационно-перегревная неустойчивость разрядной плазмы воздуха в СВЧ-поле
Бычков В.Л.\Грачев Л.П.\Есаков И.И.
Ж. техн. физ., Vol: 77, No: 3 , published: 16 December 2007
New in-situ sampling and analysis of the production of CeO[2] powders from liquid precursors using a novel wet collection system in a rf inductively coupled thermal plasma reactor. Pt 1 . Reactor system and sampling probe
Castillo I.A./Munz R.J.
Plasma Chem. Plasma Process., Vol: 27, No: 6 , published: 15 December 2007
Кинетика высокочастотного разряда низкого давления с конденсированной фазой
Струнин В.И.\Ляхов А.А.\Худайбергенов Г.Ж.\Шкуркин В.В.
Ж. техн. физ., Vol: 74, No: 4 , published: 01 December 2007
Генерация звуковых волн ВЧ-разрядом геликонного типа
Белов А.С.\Марков Г.А.
Физ. плазмы, Vol: 32, No: 9 , published: 01 December 2007
Optical and electrical diagnostics of a high-frequency glow_-arc discharge and its application to the synthesis of carbon nanofibers
Valdivia-Barrientos R./Pacheco-Sotelo J.O./Pacheco-Pacheco M./et al.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 2, Vol: 35, No: 5 , published: 13 November 2007
Characteristics of large area inductively coupled plasma using a multiple linear antennas with U-type parallel connection for flat panel display processing
Kim Kyong Nam\Seok Kyung\Yeom Geun Young
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 11 , published: 10 November 2007
Experimental study on favorable properties of compound RF discharge plasmas with a tapered shape hollow cathode compared with a plane cathode
Yambe Kiyoyuki\Matsuoka Akio\Kondoh Yoshiomi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 11 , published: 10 November 2007
Генерация низкочастотных излучений неравновесной плазмой ВЧ-разряда в линейной магнитной ловушке
Доброхотов В.В.\Люкшин Н.М.\Марков Г.А.\Чугунов Ю.В.
Физ. плазмы, Vol: 31, No: 8 , published: 03 November 2007
PECVD of carbon nanostructures in hydrocarbon-based RF plasmas
Ostrikov K.\Tsakadze Z.\Rutkevych P.P.\et al.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 45, No: 7 , published: 14 October 2007
Experimental and theoretical study of ion energy distribution function in single and dual frequency RF discharges
Rakhimova T.V./Braginsky O.V./Ivanov V.V./et al.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 1, Vol: 35, No: 5 , published: 14 October 2007
In-situ method of monitoring argon plasma density variation using current and voltage of flat antenna in inductively coupled plasma source
Lee S.-H.\Cho J.-H.\Kim G.-H.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 46, No: 5-6 , published: 01 October 2007
Probe diagnostics of microwave plasma at frequency 2.45 GHz in CW and pulse regime
Stra~3n~1ak V.\Ad~1amek P.\Bla~3zek M.\et al.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 46, No: 5-6 , published: 01 October 2007
Evidence of an energy transfer reaction between atomic hydrogen and argon ~I~I or helium ~I~I as the source of excessively hot H atoms in radio-frequency plasmas
Mills R.\Ray P.\Dhandapani B.
J. Plasma Phys., Vol: 72, No: 4 , published: 28 September 2007
Moltipactor discharge in magnetically insulated transmission line oscillator
Hao Jian-Hong\Ding Wu\Dong Zhi-Wei
Acta phys. sin., Vol: 55, No: 9 , published: 27 September 2007
The PIC/MCC simulation of the ionization processes in electron cyclotron resonance discharge. ~I. Physical model and theoretical mehods
Jin Xiao-Lin\Yang Zhong-Hai
Acta phys. sin., Vol: 55, No: 11 , published: 25 September 2007
The PIC/MCC simulation of the ionization processes in electron cyclotron resonance discharge. ~I~I. Numerical simulation and discussion of results
Jin Xiao-Lin\Yang Zhong-Hai
Acta phys. sin., Vol: 55, No: 11 , published: 25 September 2007
Приэлектродная область электродного СВЧ-разряда в водороде: спектрально-оптическое исследование и моделирование
Лебедев Ю.А.\Мокеев М.В.\Татаринов А.В.\Эпштейн И.Л.
Физ. плазмы, Vol: 30, No: 1 , published: 25 September 2007
Спектрально-оптическое исследование структуры приэлектродной области электродного СВЧ-разряда в водороде
Лебедев Ю.А.\Мокеев М.В.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 41, No: 6 , published: 24 September 2007
Numerical simulation of high-frequency driven dielectric barrier microdischarge with coplanar electrode configuration in Ar
Otsuka Shin\Tochikubo Fumiyoshi\Uchida Satoshi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 10A , published: 18 September 2007
Spectroscopic study on vibrational distribution of N[2] C{3}_P and B{3}_P states in microwave nitrogen discharge
Sakamoto Takeshi\Matsuura Haruaki\Akatsuka Hiroshi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 10A , published: 18 September 2007
Microwave measurement of decaying plasma in liquid helium
Minami Kazuo\Kojima Chikara\Ohira Takeo\Ishihara Osamu
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 2, Vol: 33, No: 4 , published: 04 September 2007
Transversal radio-frequency discharge in the Xe/Cl[2] mixture
Shuaibov A.K.\Shimon L.L.\Dashchenko A.I.\Shevera I.V.
Укр. фiз. ж., Vol: 49, No: 2 , published: 03 September 2007
Self-consitent particle modeling of inductively coupled CF[4] plasmas: effect of wafer biasing
Takekida Hideto\Nanbu Kenichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 3A , published: 24 August 2007
Output characteristics of the high-power microwave generated from a coaxial vircator with a bar reflector in a drift region
Jeon Wook\Lim Jeong Eun\Moon Min Wug\et al.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 34, No: 3 , published: 10 August 2007
The effect of discharge chamber geometry on the characteristics of low-pressure RF capacitive discharges
Lisovskiy Valeriy A./Booth Jean-Paul/Landry Karine/et al.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 35, No: 2 , published: 23 April 2007
Исследование индуктивного ВЧ-разряда как самосогласованной системы. Ч. IV. Результаты исследования эквивалентного сопротивления индуктивного ВЧ-разряда низкого давления без магнитного поля
Александров А.Ф./Бугров Г.Э./Вавилин К.В./и др.
Прикл. физ., Vol: 2006, No: 2 , published: 03 December 2006
Исследование индуктивного ВЧ-разряда как самосогласованной системы. Ч. VI. Математическое моделирование индуктивного ВЧ-разряда (самосогласованная модель)
Александров А.Ф./Бугров Г.Э./Вавилин К.В./и др.
Прикл. физ., Vol: 2006, No: 5 , published: 01 December 2006
Исследование индуктивного ВЧ-разряда как самосогласованной системы. Ч. VII. Математическое моделирование индуктивного ВЧ-разряда с емкостной компонентой (самосогласованная модель)
Александров А.Ф./Бугров Г.Э./Вавилин К.В./и др.
Прикл. физ., Vol: 2006, No: 5 , published: 01 December 2006
Исследование индуктивного ВЧ-разряда как самосогласованной системы. Ч. V. Результаты исследования эквивалентного сопротивления индуктивного ВЧ-разряда низкого давления при наличии внешнего магнитного поля
Александров А.Ф./Бугров Г.Э./Вавилин К.В./и др.
Прикл. физ., Vol: 2006, No: 4 , published: 26 November 2006
Исследование эффективности комбинирования импульсно-периодического СВЧ-разряда и гетерогенного катализа для окисления ацетилена
Гатилова Л.В.\Руссо А.\Репке Ю.\Толмачев Ю.А.
Вестн. С.-Петербург. ун-та. Сер. 4, Vol: 2006, No: 3 , published: 01 January 2006
Simulation of capacitively coupled single- and dual-frequency RF discharges
Lee Jae Koo/Baaeva Natalia Yu/Kim Hyun Chul/et al.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 1, Vol: 32, No: 1 , published: 10 December 2005
Двухкамерная установка для напыления тонких пленок в поперечном высокочастотном разряде
Строкань Г.П.
Приборы и техн. эксперим., Vol: 2003, No: 6 , published: 01 January 2003
Ленгмюровский зонд для невозмущающей диагностики параметров плазмы в.ч.-разрядов в ближнем поле антенн
Бажанов В.С., Смирнов В.А., Умнов А.Л.
Приборы и техн. эксперим., Vol: 1999, No: 3 , published: 01 January 1999
High-frequency electrostatic surface oscillations in a dust-contaminated plasma
Ostrikov Kostyantyn K., Vladimirov Sergey V., Yu Ming Y., Stenflo Lennart
J. Phys. Soc. Jpn., Vol: 68, No: 3 , 1999
On the theory of plasma-sheath resonance in a non-uniform plasma
Tanizuka Noboru, Allen John E.
J. Plasma Phys., Vol: 61, No: 3 , 1999
Role of reaction products in F{-} production in low-pressure, high-density CF[4] plasmas
Hayashi Daiyu, Nakamoto Masahiko, Takada Noriharu et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 10 , 1999
Two-dimensional fluid simulation and Langmuir probe measurement of a planar inductively coupled oxygen plasma
Yoon Hyun Jin, Chung Tae Hun, Seo Dong Cheol
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 12A , 1999
Detection of metastable chlorine ions in time-modulated plasma by time resolved laser-induced fluorescence
Kumagai Shinya, Sasaki Minoru, Koyanagi Mitsumasa, et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 12B , 1999
New electrodeless light source excited by a microwave immersed in a uniform static magnetic field
Zhang Rui, Nishida Yasushi, Kanno Masato et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7A , 1999
Production of inductively-coupled large-diameter plasmas with internal antenna
Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji, Sakawa Yoichi, Shoji Tatsuo
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Experimental characterization of an inductively coupled plasma discharge using a shape-adjustable coil
Leou Keh-Chyang, Tsai Szu-Che, Chang Chai Hau et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Ferrite core effects in a 13.56 MHz inductively coupled plasma
Lloyd Shane, Shaw Denis M., Watanabe Masahiro, Collins George J.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Pre-sheaths and turbulent flow in electronegative plasmas
Vitello Peter
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Characteristics of very high frequency plasma produced using a ladder-shaped electrode
Mashima Hiroshi, Murata Masaysohi, Takeuchi Yoshiaki et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Production of large-diameter uniform plasma in mTorr range using microwave discharge
Yasaka Yasuyoshi, Nozki Daiki, Koga Kazuya et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Test-wave measurements of microwave absorption efficiency in a planar surface-wave plasma reactor
Ghanashev Ivan, Morita Shin, Toyoda Naoki et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Energy control of ion from a capacitively coupled plasma using RF resonance method
Kikuchi Tetsuo, Ohnishi Keitaro, Yasaka Yasuyoshi et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Behavior of F atoms and CF[2] radicals in fluorocarbon plasmas ror SiO[2]/Si etching
Tachibana Kunihide, Kamisugi Hideaki, Kawasaki Takeshi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
The energies of positive and negative ions in an RF plasma in nitrous oxide
Rees J. Alan, Greenwood Claire L., Seymour David L.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Hybrid modeling of a capacitively coupled radio frequency glow discharge in argon: combined Monte Carlo and fluid model
Bogaerts Annemie, Gijbels Renaat, Goedheer Wim
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Dependence of driving frequency on capacitively coupled plasma in CF[4]
Segawa Sumie, Kurihara Masaru, Nakano Nobuhiko, Makabe Toshiaki
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
A numerical study of a collision-dominated inductively coupled plasma using particle-in-cell/Monte Carlo simulation
Oh Jin-Sung, Makabe Toshiaki
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Two-dimensional modeling of spatiotemporal structure of inductively coupled plasma
Kamimura Kazuhiro, Iyanagi Katumi, Nakano Nobuhiko, Makabe Toshiaki
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Realistic etch yield of fluorocarbon ions in SiO[2] etch process
Hikosaka Yukinobu, Yayashi Hisataka, Sekine Makoto et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Patterned platinum etching studies in an argon high-density plasma
Delprat Sebasten, Chaker Mohamed, Margot Joelle
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Effect of oxygen component in magneto-active microwave CH[4]/He plasma on large-area diamond nucleation over Si
Jeon Hyeongmin, Wang Chunei, Hatta Akimitsu, Ito Toshimichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Diamond deposition and behavior of atomic carbon species in a low-pressure inductively coupled plasma
Ito Haruhiko, Teii Kungen, Ishikawa Masayuki et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Ellipsometric monitoring of first states of diamond nucleation in a bias-enhanced surface-wave-excited microwave plasma
Hayashi Yasuaki, Nakamura Hideto, Nagahiro Masaaki, Nishino Shigehiro
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Relationship between intensity of fullerene-mass spectrum and carbon vibrational temperature in microwave-helium plasmas
Ueda Kengo, Kuwahara Kiyoshi, Fujiyama Hiroshi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Ion bombardment effects on boron nitride film synthesis by reactive sputtering with electron cyclotron resonance plasmas
Wakatsuchi Masayuki, Takaba Yoshiro, Kanai Kumiko et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Low-dielectric-constant-film deposition with various gases in a helicon plasma reactor
Yun Seok-Min, Chang Hong-Young, Oh Kyoung-Suk, Choi Chi-Kyu
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Gas phase diagnosis of disilane/hydrogen RF glow discharge plasma and its application to high rate growth of high quality amorphous silicon
Futako Wataru, Takagi Tomoko, Nishimoto Tomonori et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Deposition of SiN[x] thin film using μ-SLAN surface wave plasma source
Xu Ying-Yu, Ogishima Takuya, Korzec Dariusz et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Particle growth kinetics in silane RF discharges
Shiratani Masaharu, Fukuzawa Tsuyoshi, Watanabe Yukio
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Negative ion volume production in electron cyclotron resonance hydrogen plasmas
Fukumasa Osamu, Matsumori Masanori
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 7B , 1999
Oxygen microwave plasma density enhancement by surface waves with a high-permittivity material window
Furukawa M., Koromogawa T., Kamiyo K., et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 8 , 1999
Oxygen microwave plasma density enhancement by surface waves with a high-permittivity material window
Furukawa M., Koromogawa T., Kamiyo K., et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 8 , 1999
Diagnostic of surface wave plasma for oxide etching in comparison with inductive RF plasma
Kokura Hikaru, Yoneda Shinichi, Nakamura Keiji et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 9A , 1999
Role of electron thermal motion in evanescent electromagnetic wave structure of inductively coupled plasma
Takechi Seiji, Shinohara Shunjiro
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 2A , 1999
Characteristics of ultrahigh-frequency surface-wave plasmas excited at 915 MHz
Nagatsu Masaaki, Ito Akira, Toyoda Naoki, Sugai Hideo
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 6A-6B , 1999
Detailed structure of the afterglow of radio-frequency chlorine discharge
Nanbu Kenichi, Nakagome Takeo, Kageyama Junichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 38, No: 8B , 1999
Instabilities in a dusty plasma with ion drag and ionization
Samsonov D., Goree J.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 59, No: 1 , 1999
Experimental test of models of high-plasma-density, radio-frequency sheaths
Sobolewski Mark A.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 59, No: 1 , 1999
Theory of magnetized, coupled, rf-driven plasma sheaths in one dimension
Riyopoulos Spilios
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 59, No: 1 , 1999
Discharge impedance of solenoidal inductively coupled plasma discharge
You K.-I., Yoon N. S.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 59, No: 6 , 1999
Self-consistent axial modeling of surface-wave-produced discharges at low and intermediate pressures
Petrova Ts., Benova E., Petrov G., Zhelyazkov I.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 60, No: 1 , 1999
Optical measurements of paired luminous rings in capacitive radio-frequency hydrogen discharges
Sakawa Y., Hori M., Shoji T., Sato T.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 60, No: 5 , 1999
Gas temperature and nitrogen atom concentration influence on the particle kinetics in a surface-wave-sustained N[2] discharge
Stoykova E.
Phys. scr., Vol: 59, No: 1 , 1999
Influence of resonance energy absorption on the properties of gas discharge maintained by asymmetric surface waves
Azarenkov N.A., Gapon A.V., Denisenko I.B., Smolyakov A.I.
Phys. scr., Vol: 59, No: 4 , 1999
On filamentation in microwave discharges at elevated pressures
Maximov A.V., Schluter H.
Phys. scr., Vol: 60, No: 6 , 1999
A comparative study on the intensity of the spectral lines emitted by a chemical flame (air-acetylene) and by an electrical one (inductively coupled plasma)
Hotinceanu M., Neagoe S.
Rom. J. Phys., Vol: 44, No: 5-6 , 1999
Laser ablation inductively coupled plasma - atomic emission spectroscopy (LA-ICP-AES); Fundamental and analyticalexperiemnts
Ciocan A.C., Mao X.L., Borisov V., Russo R.E.
Rom. J. Phys., Vol: 44, No: 5-6 , 1999
Interaction between particle and temperature fields of AC plasma ARC
Gu Yun-peng, Gong Ye, Sun Ji-zhong
Acta phys. sin., Vol: 48, No: 6 , 1999
Критерий пробоя газа в СВЧ поле
Лисовский В.А.
Ж. техн. физ., Vol: 69, No: 11 , 1999
Структура кристалла микрочастиц в плазме высокочастотного разряда
Швейгерт В.А., Швейгерт И.В., Беданов В.М. и др.
Ж. эксперим. и теор. физ., Vol: 115, No: 3 , 1999
Волновая диагностика плазмы с помощью диэлектрического волновода
Катин И.В., Марков Г.А.
Изв. вузов. Радиофиз., Vol: 42, No: 3 , 1999
Асимметрия резонансов насыщенного поглощения в He-Ne/{127}I[2]-лазерах с накачкой поперечным ВЧ разрядом
Бойко А.В., Негрийко А.М., Яценко Л.П.
Квант. электрон., Vol: 28, No: 2 , 1999
Наблюдение светоиндуцированного тока в плазме СВЧ разряда Ar с примесью паров лития, резонансно возбуждаемых лазерным излучением
Востриков О.А., Насыров К.А., Подъячев С.П., Шалагин А.М.
Оптика и спектроскопия, Vol: 86, No: 2 , 1999
Использование резонансного комбинационного рассеяния света для диагностики плазмы
Раздобарин Г.Т., Соломаа Р.Р.У., Сантала М.И.К. и др.
Письма в ЖТФ, Vol: 25, No: 18 , 1999
Электронный энергетический спектр приэлектродной плазмы всимметричного емкостного ВЧ разряда низкого давления
Александров А.Ф., Рухадзе А.А., Савинов В.П. и др.
Письма в ЖТФ, Vol: 25, No: 19 , 1999
Непрерывный оптический разряд в термоэмиссионном преобразователе энергии лазерного излучения в электрическую энергию
Алексеева И.В., Будник А.П., Жеребцов В.А. и др.
Письма в ЖТФ, Vol: 25, No: 7 , 1999
Измерение температуры газа в ВЧ-разряде низкого давления методом сканирующей калориметрии
Магунов А.Н., Лукин О.В., Гасилов А.Ю.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 37, No: 2 , 1999
Энергетическое распределение электронов в приэлектродной плазме емкостного ВЧ-разряда низкого давления
Александров А.Ф., Савинов В.П., Сингаевский И.Ф.
Вестн. МГУ. Сер. 3, Vol: 1998, No: 6 , published: 01 January 1998
Radio-frequency-precionized xenon z-pinch source for extreme ultraviolet lithography
McGeoch Malcolm
Appl. Opt., Vol: 37, No: 9 , 1998
Continuous air monitoring using inductively coupled plasma atomic emission spectrometry: Correction of spectral interferences arising from CN emission
Seltzer M.D.
Appl. Spectrosc. , Vol: 52, No: 2 , 1998
Analysis of discolored aluminum foil by laser ablation inductively coupled plasma mass spectrometry and scanning electron microscopy
Yuzefovsky A.I., Miser D.E.
Appl. Spectrosc. , Vol: 52, No: 5 , 1998
Use of internal standardization to compensate for a wide range of absorbance in the analysis of glasses by UV laser ablation inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
Kanicky V., Otruba V., Mermet J.-M.
Appl. Spectrosc. , Vol: 52, No: 5 , 1998
Electromagnetically induced transparency in a RF discharge
Pavone F.S., Artoni M., Bianchini G., Cancio P. et al.
Eur. Phys. J. D, Vol: 1, No: 1 , 1998
Modelling of the heat transfer and fluid flow in a radio-frequency plasma torch with argon-hydrogen as the working gas
Chen X., Sugasawa M., Kikukawa N.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 10 , 1998
The evolution of the translational energy of hydrogen atoms in a 2 MHz inductively coupled plasma deposition reactor
Andrieux M., Badie J.M., Ducarroir M., Bisch C.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 12 , 1998
XPS characterization of mica surfaces processed using a radio-frequency (rf) argon plasma
Liu Zh.H., Brown N.M.D.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 15 , 1998
Self-consistent modelling of overdense plasmas in ECR discharges
Hemmers D., David M., Kempkens H. et al.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 17 , 1998
Spatial rotational temperature and emission intensity profiles in silane plasmas
Stamou S., Mataras D., Rapakoulias D.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 19 , 1998
Rf breakdown of low-pressure gas and a novel method for determination of electron-drift velocities in ases
Lisovskiy V.A., Yegorenkov V.D.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 23 , 1998
Spatial investigation of a large diameter surface wave-excited plasma and its electromagnetic mode
Wu Cong-Feng, Wu Shuai, Zhan Ru-Juan
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 24 , 1998
Selective heating of high-pressure vapour elements by ion-cyclotron resonance
Compant La Fontaine A., Louvet P., Le Gourrierec P., Pailloux A.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 7 , 1998
Plasma processing of LiNbO[3] in a hydrogen/oxygen radio-frequency discharge
Turcicova H., Perlna V., Vacik J., Cervena J., Zemek J., Zelezny V., Arend H.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 31, No: 9 , 1998
Spectral breaking of high-power microwave pulses propagating in a self-induced plasma
Koretzky E., Kuo S.P., Kim J.
J. Plasma Phys., Vol: 59, No: 2 , 1998
Positive ions in RF discharge plasmas of C[4]F[8]/Ar and C[4]F[8]/O[2] mixtures
Hirose Yuji, Ishikawa Itsuo, Sasaki Shinya et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 10 , 1998
Concentric spread plasma source
Watanabe Seiichi, Sumiya Masahiro, Kawasaki Sunao
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 10 , 1998
Negative ion formation in SiO[2] etching using a pulsed inductively coupled plasma
Choi Chang Ju, Kwon O Sung, Seol Yeo Song et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 12B , 1998
Spatial and temporal behavior of radicals in inductively coupled plasm for SiO[2] etching
Hayashi Shigenori, Yamanaka Michinari, Kubota Masafumi, Ogura Mototsugu
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 12B , 1998
Highly selective SiO[2] etching using inductively coupled plasma source with a multispiral coil
Yamanaka M., Hayashi Sh., Kubota M., Nakagawa H.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
Enhancement of mask selectivity in SiO[2] etching with a phase-controlled pulsed inductively coupled plasma
Shin K.S., Chi K.K., Kang Ch.J., Jung Ch., Jung Ch.O., Moon J.T., Lee M.Y.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
High density aluminum etcher process window characterization and comparison
Jacobs J., Saito K., Yamamoto J.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
A study of the O[2]-SO[2] plasma etch chemistry for top surface imaging photoresist dry development
Huang Z.S., Melaku Y., Nguyen W.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
Mechanism of radical control in capacitive RF plasma for ULSI processing
Tatsumi T., Hayashi H., Morishita S., Noda Sh., Okigawa M., Itabashi N., Hikosaka Y., Inoue M.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
Monitoring of electron energy distribution change from optical emission for nonmagnetic ultrahigh-frequency plasma
Kinoshita K., Noda Sh., Okigawa M., Hirosaka Y., Itabashi N., Inoue M.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
Production and control of low-pressure Ar and CF[4] plasmas using surface waves
Nagatsu M., Ghanashev I., Morita Sh., Sugai H.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
The correlation netween an electric field and the metastable chlorine ion density distributions in an ultrahigh-frequency plasma
Nakano T., Samukawa S.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 5A , 1998
Experimental study on heat flux from an argon RF plasma using laser interferometry method
Takaki K., Takahashi A., Fujiwara T.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 6A , 1998
Study on initial growth of particles in low-pressure and low-power GeH[4] RF discharges using the high-sensitivity photon-counting laser-light-scattering method
Kawasaki Hirosharu, Sakamoto Kazutaka, Maeda Shinichi et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 10B , 1998
Characteristics of a large-diameter surface-wave mode microwave-induced plasma
Kaneko E., Okamoto T., Watanabe S. et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 2A , 1998
Similarities in spatial distributions of absolute GeH[2] density, radical production rate and particle amount in GeH[4] RF discharges
Kawasaki H., Kida J., Sakamoto K. et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 4B , 1998
Deposition of micro-crystalline β-C[3]N[4] films by an inductively-coupled-plasma (ICP)sputtering method
Hsu Ch.-Y., Hong F.Ch.-N.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 37, No: 6B , 1998
Theoretical model of a stationary low-pressure plasma source based on surface type X-mode
Girka V.O.
Phys. scr., Vol: 58, No: 4 , 1998
Model and measurements for a planar inductive oxygen discharge
Gudmundsson J.T., Lieberman M.A.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 7, No: 1 , 1998
Power transfer efficiency and mode jump in an inductive RF discharge
Suzuki K., Nakamura K., Ohkubo H., Sugai H.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 7, No: 1 , 1998
Surface wave sustained plasmas in a metal bound plasma slab
Cooperberg D.J., Birdsall C.K.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 7, No: 1 , 1998
Fast modelling of low-pressure radio-frequency collisional capacitively coupled discharge and investigation of the formation of a non-Maxwellian electron distribution function
Berezhnoi S.V., Kaganovich I.D., Tsendin L.D.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 7, No: 3 , 1998
A coupled two-sheath simulation of RF bias at high electronegativities
Kanakasabapathy S.K., Overzet L.J.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 7, No: 3 , 1998
Neutral pumping in a helicon discharge
Gilland J., Breun R., Hershkowitz N.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 7, No: 3 , 1998
Improvements to the floating double probe for time-resolved measurements in pulsed rf plasmas
Smith Brian A., Ovrzet Lawrence J.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 69, No: 3 , 1998
Влияние матрицы в масс-спектрометрии с использованием индуктивно связанной плазмы
Пунышев А.А., Васильева Н.Л., Голик С.В.
Ж. прикл. спектроскопии, Vol: 65, No: 5 , 1998
Особенности α-γ-перехода в ВЧ разряде низкого давления в аргоне
Лисовский В.А.
Ж. техн. физ., Vol: 68, No: 5 , 1998
Кинетический коэффициент отражения электронов в кнудсеновской низковольтной дуге
Алексеев Н.И.
Ж. техн. физ., Vol: 68, No: 5 , 1998
Аналитическая модель поведения электрических полей в столкновительном ВЧ-разряде низкого давления
Лисовский В.А., Егоренко В.Д.
Изв. вузов. Физ., Vol: 41, No: 12 , 1998
Формирование структур из макрочастиц в плазме ВЧ разряда индукционного типа
Герасимов Ю.В., Нефедов А.П., Синельщиков В.А., Фортов В.Е.
Письма в ЖТФ, Vol: 24, No: 19 , 1998
Энергетическая цена иона в комбинированном индукционно-емкостном ВЧ разряде
Дудин С.В., Зыков А.В., Положий К.И., Фареник В.И.
Письма в ЖТФ, Vol: 24, No: 22 , 1998
Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления в смеси инертных газов и галогенов для экономичных безртутных люминeсцентных источников света
Головицкий А.П.
Письма в ЖТФ, Vol: 24, No: 6 , 1998
Определение коэффициентов переноса электронов в аргоне из кривых зажигания ВЧ и комбинированного разрядов низкого давления
Лисовский В.А.
Письма в ЖТФ, Vol: 24, No: 8 , 1998
Термодиффузионное расслоение плазмы непрерывного СВЧ разряда
Вихарев А.Л., Горбачев А.М., Иванов О.А., Колыско А.Л., Кузнецов О.Ю.
Письма в ЖЭТФ, Vol: 67, No: 7-8 , 1998
Влияние структуры электромагнитного поля на распределение интенсивности ионизации в плазме газового СВЧ разряда с электронно-циклотронным резонансом
Кудряшов С.А., Яфаров Р.К.
Радиотехн. и электрон. (Россия), Vol: 43, No: 1 , 1998
Резонаторный СВЧ-разряд в смеси водорода с метаном
Лебедев Ю.А., Солдатова И.В., Эпштейн И.Л., Холодкевич О.И.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 36, No: 1 , 1998
Возникновение популяции холодных электронов в высокочастотном емкостном разряде низкого давления как аналог теплового взрыва
Бережной С.В., Каганович И.Д., Цендин Л.Д.
Физ. плазмы, Vol: 24, No: 7 , 1998
Динамика нагрева электронов в столкновительном ВЧ-разряде в гелии: эксперименты, расчеты и модель
Квандт Э., Катш Г.-М.
Физ. плазмы, Vol: 24, No: 7 , 1998
Dependence of frequency and pressure on electron energy distribution functions in low pressure plasma
Akashi H., Samukawa S., Takanashi N., Sasaki T.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 36, No: 7A , 1997
Two-dimensional nonlocal heating theory of planar-type inductively coupled plasma discharge
Yoon N. S., Hwang S. M., Choi Duk-In
Astrophys. J. , Vol: 55, No: 6 , 1997
Influence of different coil geometries on the spatial distribution of the plasma density in planar inductively coupled plasmas
Schwabedissen A., Benck E. C., Roberts J. R.
Astrophys. J. , Vol: 56, No: 5 , 1997
Clusters of ionization clumps in weakly ionized annular rf discharges
Liu Chih-Yi, I Lin
Astrophys. J. , Vol: 57, No: 3 , 1997
A discharge as atomic beam source for hydrogen maser
Gheorghiu O.C., Gheorghe Viorica N.
Rom. Rep. Phys., Vol: 49, No: 5-7 , 1997
Кинетика электронов в плазме разряда, создаваемого в свободном пространстве сфокусированным СВЧ пучком
Кузовников А.А., Шибков В.М., Шибкова Л.В.
Ж. техн. физ., Vol: 67, No: 6 , 1997
Мелкомасштабные динамические структуры в микроволновых разрядах низкого давления
ВВеденский Н.В., Вдовичева Н.К., Жарова Н.А., Шершевский И.А., Гильденбург В.Б., Ясин М.И.
Изв. вузов. Радиофиз., Vol: 40, No: 8 , 1997
Нагрев газа в условиях свободно локализованного СВЧ-разряда в воздухе. Математическое моделирование
Шибков В.М.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 35, No: 5 , 1997
Ponderomotive effects on the expansion of a photoplasma in the microwave range
Leloutre B., Furtlehner J.-P., Camus P.
J. Plasma Phys., Vol: 55, No: 1 , 1996
One-dimensional solution for electron heating in an inductively coupled plasma discharge
Yoon N.S., Kim S.S., Chang C.S., Choi D.-I.
Astrophys. J. , Vol: 54, No: 1 , 1996
Metastable atoms and the electron distribution function in a helium discharge positive column
Alexandrov V.M., Flender U., Kolokolov N.B., Rykova O.V., Wiesemann K.
Plasma Sources Sci. and Technol., Vol: 5, No: 3 , 1996
Modeling and measurement of submicron particles in RF plasmas in Ar{*}
Hosokawa Y., Kitajima T., Makabe T.
Austral. J. Phys., Vol: 48, No: 3 , 1995
Dynamics of charged species in the afterglow region of a low-pressure microwave plasma
Wei T.-Ch., Collins L.R., Phillips J.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 28, No: 2 , 1995
Monte Carlo simulation of electron motion in the cathode region of a magnetron glow discharge in argon
Li J., Chen Q.-M., Li Z.-G.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 28, No: 4 , 1995
Spatiotemporal electron dynamics in radio-frequency glow discharges: Fluid versus dynamic Monte Carlo simulations
Lymberopoulos D.P., Economou D.J.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 28, No: 4 , 1995
Rf plasma properties of flat electrodes with multi-input terminals
Hirakuri K.K., Mutskura N., Machi Y.
Vacuum, Vol: 46, No: 1 , 1995
Зарядка и экранирование микрочастиц в приэлектродном слое высокочастотного газового разряда
Швейгерт В.А.
Письма в ЖТФ, Vol: 21, No: 12 , 1995
Поведение постоянного потенциала плазмы в ВЧ разряде низкого давления
Лисовский В.А., Красников О.В.
Письма в ЖТФ, Vol: 21, No: 22 , 1995
Пространственная структура ВЧ-разряда в аргоне низкого давления
Иванов В.В., Попов А.М., Рахимова Т.В.
Физ. плазмы, Vol: 21, No: 6 , 1995
Electron acceleration resonant with sheath motion in a low-pressure radio frequency discharge
Okuno Y., Ohtsu Y., Fujita H.
Appl. Phys. Lett. , Vol: 64, No: 13 , 1994
Analysis of a one-dimensional, steady-state magnetron discharge
Cramer N.F.
J. Phys. D: Appl. Phys., Vol: 30, No: 18 , 1994
Electrostatic coupling of antenna and the shielding effect in inductive RF plasmas
Sugai H., Nakamura K., Suzuki K.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 33, No: 4B , 1994
A comparison of RF electrode sheath models
Godyak V.A., Piejak R.B., Sternberg N.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 21, No: 4 , 1993
Electron density and collision frequency of microwave-resonant-cavity-produced discharges
McColl W., Brooks C., Brake M.L.
J. Appl. Phys. , Vol: 74, No: 6 , 1993
A two-dimensional fluid model for an argon rf discharge
Passchier J.D.P., Goedheer W.J.
J. Appl. Phys. , Vol: 74, No: 6 , 1993
Space and time resolved electric field vector distribution in radiofrequency discharges between unequal area electrodes
Alberta M.P., Debontride H., Derouard J., Sadeghi N.
J. phys. Sec. 3, Vol: 3, No: 1 , 1993
Low pressure argon plasma created by a microwave surface wave
Elakshar F.F., Isamil L.Z.
Int. J. Electron, Vol: 1992, No: , published: 01 January 1992
Численный анализ диффузионно-дрейфовой и кинетической моделей ВЧ разряда низкого давления
Волкова Е.А., Попов А.М., Поповичева О.Б., Рахимова Т.В., Феоктистов В.А.
Физ. плазмы, Vol: 1992, No: , published: 01 January 1992
Pressure dependence of the electrical potential and electron temperature in a microwave-generated plasma
Ismail Lotfi Zaki, El-Magd Ayman Abou
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 20, No: 2 , 1992
The space-time-averaging procedure and modeling of the RF discharge. PtII. Model of collisional low-pressure RF discharge
Kaganovich Igor D., Tsendin Lev D.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 20, No: 2 , 1992
Low-pressure RF discharge in the free-flight regime
Kaganovich Igor D., Tsendin Lev D.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 20, No: 2 , 1992
On the continuity equation for electrons in microwave-afterglow plasmas
Abdel-Gawad H.I.
J. Plasma Phys., Vol: 47, No: 2 , 1992
One-dimensional modeling for magneto-microwave plasma using the Monte Carlo method
Ikegawa Masato, Kakehi Yutaka, Kobayashi Junichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 31, No: 6B , 1992
Электродинамическая модель фотоионизационного режима распространения неравновесного СВЧ разряда
Еремеев А.Г.
Физ. плазмы, Vol: 18, No: 10 , 1992
Power efficiency oriented optimal design of high density CCP and ICP sources for semiconductor RF plasma processing equipment
Long Maolin
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 2, No: 3.
Power efficiency oriented optimal design of high density CCP and ICP sources for semiconductor RF plasma processing equipment
Long Maolin
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 2, No: 3.
Experimental study of effect of rare gas admisture on temperatures of microwave-excited oxygen discharge plasma
Sakamoto Takeshi, Naoi Kouichi, Matsuura Haruaki, et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 1A
Heat transport simulation for atmospheric-pressure high-density microgap plasma
Kono Akihiro, Shibata Tomoyuki, Aramaki Mitsutoshi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 45, No: 2
Области pеализации pазличных типов СВЧ-pазpяда в квазиоптических электpомагнитных пучках
Александpов К.В., Гpачев Л.П., Есаков И.И., и дp.
Ж. техн. физ., Vol: 76, No: 11
On the reaction kinetics of chemicaly active molecular microwave plasmas
Stancu G.D., Pipa A.V., Lombardi G., et al.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 45, No: 5-6
Analysis and kinetics of transient species in electrode near plasma and plasma boundary sheath of RF plasmas in molecular gases
Geigl M., Peters S., Gabriel O., et al.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 45, No: 5-6
Ion molecule and dust particle formation in Ar/CH[4], Ar/C[2]H[2] and Ar/C[3]H[6] radio-frequency plasmas
Do H.T., Thieme G., Frohlich M., et al.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 45, No: 5-6
Using the Stark broadening of the H[α], H[β] and H[γ] lines for the measurement of electron density and temperature in a plasma at atmospheric pressure
Yubero C., Calzada M.D., Garcia M.C.
J. Phys. Soc. Jpn., Vol: 74, No: 8
Computational studies of voltage in RF magnetron discharge
Yamamoto Masahiro, Nakashima Seiji, Yamanishi Hitoshi, et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 44, No: 12
Dependences of plasma parameters on dilution gas content inductively coupled C[2]F[6]/Ar and C[2]F[6]/O[2] discharges
Kimura Takashi, Noto Masahisa
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 44, No: 12
Simulation of step response of silane low-temperature pasma (1)
Yang Jing, Li Jing-Zhen, Sun Xiu-Quan, et al.
Acta phys. sin., Vol: 54, No: 7
PIC-MCC modeling of a capacitive RF discharge
Matyash K., Schneider R.
Contrib. Plasma Phys., Vol: 44, No: 7-8
Rotation of particles trapped in the sheath of a radio-frequency capacitively coupled plasma
Paeva G.V., Dahiya R.P., Kroesen G.M.W., et al.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 2, No: 2
Temperature dependence and silane consumption during particle formation in Ar-silane RF capacitively coupled plasma
Sorokin M., Kroesen G.M.W., Stoffels W.W.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 2, No: 2
Modeling of N[2]-H[2] capacitively coupled plasma for low-k material etching
Shon C.H., Makabe T.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 2, No: 1
On rapid computation of time periodic steady state in simulation of capacitively coupled RF plasma
Kim H.C., Sul Y.T., Manousiouthakis V.I.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 2, No: 1
Quasilinear collisionless electron heating in a weakly magnetized inductively coupled plasma
Sohbatzadeh F., Latifi H.
J. Plasma Phys., Vol: 70, No: 6
Effect of attaching gas addition on plasma parameters in inductive Ar/O[2] and Ar/CF[4] discharges
Kimura Takashi, Takai Tomoyoshi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 43, No: 10
Influences of gap distance on plasma characteristics in narrow gap capacitively coupled radio-frequency discharge
Ohtsu Yasunori, Fujita Hiroharu
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 43, No: 2
Etching characteristics of manganese-doped zinc sulfide film using Cl[2]/CF[4] inductively coupled plasma
Yun Sun Jin, Kwon Kwang-Ho, Lee Yong-Eui, et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 43, No: 5B
Sheath model for dual-frequency capacitively coupled plasmas
Denpoh Kazuki, Wakayama Go, Nanbu Kenichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 43, No: 8A
Characteristics of two-electron-temperature in inductively coupled CF[4] plasmas
Huang Song, Ning Zhao-Yuan, Xin Yu, et al.
Acta phys. sin., Vol: 53, No: 10
Электpофизические и тепловые паpаметpы теpмической плазмы в высокочастотном индукционном pазpяде
Геpасимов А.В.
Изв. вузов. Физ., Vol: 47, No: 7
Эмиссионные хаpактеpистики плазмы низкой плотности на основе смеси гелий-хлоp
Шуаибов А.К., Дащенко А.И., Шевеpа И.В.
Оптика и спектроскопия, Vol: 97, No: 1
Измеpение темпеpатуpы дозвуковых потоков индукционной плазмы углекислого газа по эмиссионным спектpам
Быкова Н.Г., Кузнецова Л.А.
Физ. плазмы, Vol: 30, No: 11
Импульсно-пеpиодический факел в коаксиальном волноводе. Темпеpатуpа нейтpального компонента
Баpхудаpов Э.М., Гpицинин С.И., Дpейден Г.В., и дp.
Физ. плазмы, Vol: 30, No: 6
The reliability of measurements on electron energy distribution function in silane rf glow discharges
Lin Kui-Xun, Lin Xuan-Ying, Chi Ling-Fei, et al.
Chin. Phys., Vol: 12, No: 2
Influence of excitation frequency on the electron distribution function in capacitively coupled discharges in argon and helium
Abdel-Fattah Essam, Sugai Hideo
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 42, No: 10
Plasma properties and ion energy distribution in DC magnetron sputtering assisted by inductively coupled RF plasma
Li Zhuguo, Miyake Shoji, Mori Masakazu
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 42, No: 11
Spatio temporal variation of the density distributions in Ar RF plasmas using the Monte Carlo simualtion/legendre polynomial weighted sampling method
Horie I., Suzuki T., Kitamori K., Maruyama K.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 42, No: 3
Comparative studies of perfluorocarbon alternative gas plasmas for contact hole etch
Nakamura Shingo, Itano Mitsushi, Aoyama Hirokazu, et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 42, No: 9A
Ion densities and ionization fractions of sputtered titanium in inductively coupled plasma assisted sputtering
Nakamura Tadashi, Okimura Kunio
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 42, No: 9A
Поверхность раздела прямого и возвратного течений внутри высокочастотного индукционного разряда
Герасимов А.В., Кирпичников А.П.
Докл. РАН, Vol: 389, No: 2
Анализ зарядки макрочастиц в приэлектродном слое емкостного высокочастотного разряда
Ваулина О.С., Самарян А.А., Джеймс Б., и др.
Ж. эксперим. и теор. физ., Vol: 123, No: 6
Аналог эффекта полого катода в высокочастотном емкостностном pазpяде низкого давления
Малик Д.А., Оpлов К.Е., Смиpнов А.С., Чеpноизюмская Т.В.
Письма в ЖТФ, Vol: 29, No: 12
О температуре газа в плазме электродного СВЧ-разряда пониженного давления в водороде
Лебедев Ю.А., Мокеев М.В.
Физ. плазмы, Vol: 29, No: 3
Application of modulation techniques to atomic emission spectrometry with inductively-coupled radio-drequency plasma and radio-frequency plasma and radio-frequency glow discharge plasma
Wagatsuma Kazuaki
Appl. Spectrosc. Rev., Vol: 37, No: 2
Annular profile of dust density near RF-powered electrode in capacitively coupled plasma
Ohtsu Y., Fujita H.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 4A
Particle modeling of inductively coupled plasma and radicals flow to predict etch rate of silicon
Shiozawa M., Nanbu K.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 4A
Observation of an inductively coupled RF discharge with one-turn internal antenna
Cicman P., Fujita H.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 5A
Simple monitoring method for RF plasmas by the insulated pulse probemethod
Deguchi M., Itatani R.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 7A
Insulated modulation probe method for monitoring RF plasmas
Deguchi M., Itaani R.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 7A
Efficiency of parallel-plate capacitive radio frequency discharge plasma
Ikegaki H., Tajima S., Endo M., Amemiya H.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 7A
A study of capacitively coupled plasma generation in single-loop
Shindo H., Kudo D., Fujhi S.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 41, No: 8B
Local and fast relaxation phenomena after laser-induced photodetachment in a strongly electronegative rf discharge
Yan M., Bogaerts A., Gijbels R., Goedheer W. J.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 65, No: 1
Spatiotemporal characteristics of the collisionless rf sheath and the ion energy distributions arriving at rf-biased electrodes
Dai Zhong-Ling, Wang You-Nian, Ma Teng-Cai
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 65, No: 3
Multiple ion dynamics model for the collisionless rf sheaths and the ion energy distributions at rf-biased electrodes in fluorocarbon plasmas
Dai Zhong-Ling, Wang You-Nian
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 66, No: 2
Structure of ternary additive hard-sphere fluid mixtures
Malijevsky Alexander, Malijevsky Anatol, Yuste Santos B., Santos Andres, Haro Mariano Lopez de
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 66, No: 6
Weak fountains in a stratified fluid
Lin Wenxian, Armfield S. W.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 66, No: 6
Gas heating in low-pressure microwave argon discharges
Palmero A., Cotrino J., Lao C., Gonzalez-Elipe A. R.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 66, No: 6
Evolution of a Dust Void in a Radio-Frequency Plasma Sheath
Dahiya R. P., Paeva G. V., Stoffels W. W., Stoffels E., Kroesen G. M. W., Avinash K., Bhattacharjee A.
Phys. Rev. Lett., Vol: 89, No: 12
Probe measurements in RF electronegative gas discharges
Kazuyuki Ohe
Rom. Rep. Phys., Vol: 54, No: 1-5
Production of inductively coupled plasma in low pressure gases
Fujita H.
Rom. Rep. Phys., Vol: 54, No: 1-5
Collisional effects on ion energy and angular distributions incident on RF-biased electrodes
Qiu Hua-Tan, Wang You-Nian, Ma Teng-Cai
Acta phys. sin., Vol: 51, No: 6
Пробой воздуха убегающими электронами при электронно-циклотронном резонансе - экспериментальная модель механизма образования гигантских высотных разрядов
Сергейчев К.Ф., Сычев И.А.
Геомагнетизм и аэрон., Vol: 42, No: 4
Пыле-акустическая неустойчивость в плазме индукционного газового разряда
Зобнин А.В., Усачев А.Д., Петров О.Ф., Фортов В.Е.
Ж. эксперим. и теор. физ., Vol: 122, No: 3
Высокочастотный разряд в металлической камере
Шишкин А.Г., Шишкин Г.Г.
Радиотехн. и электрон. (Россия), Vol: 47, No: 3
Исследование ВЧ-разряда в смесях CO[2]-лазера при средних давлениях
Старостин С.А., Боллер К.Дж., Петерс П.Дж.М. и др.
Физ. плазмы, Vol: 28, No: 1
Слаботочный ВС-разряд среднего давления с вторичной фотоэмиссией электронов
Баранов И.Я.
Физ. плазмы, Vol: 28, No: 1
Бесконтактный метод изучения параметров приэлектродной области ВЧ-разряда
Александров А.Ф., Рябый В.А., Савинов В.П., Якунин В.Г.
Физ. плазмы, Vol: 28, No: 12
Распределение электронов и генерации гармоник при нагреве плазмы мощным излучением
Романов А.Ю., Силин В.П., Урюпин С.А., и др.
Физ. плазмы, Vol: 28, No: 8
Electron energy distributions in inductively coupled plasma of argon
Yonemura Shigeru, Nanbu Kenichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 12
Decomposition of N[2]O by microwave discharge of N[2]O/He or N[2]O/Ar mixtures
Tsuji Masaharu, Tanoue Takeshi, Kumagae Jun, Nakano Kousuke
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 12
Optical observation of gas discharge induced by high-power and short-pulsed microwave
Onoi M., Azuma K., Fujiwara E., Yatsuzuka N.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 2B
Preparation of oxygenated fullerene thin film for photoelectric devices
Yang S.-C., Mieno T.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 2B
Correlation between metastable and ground-state fluorine atom densities measured by laser-induced fluorescence and vacuum ultraviolet absorption spectroscopies
Takizawa K., Sasaki K., Kadota K.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 8
Novel high-density microwave plasma utilizing an internal spoke antenna for fast deposition of microcrystalline silicon films
Shirai Hajime, Yoshino Koichi, Ohkawara Go et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 7A
High-efficiency neutral-beam generation by combination of inductively coupled plasma and parallel plate DC bias
Samukawa Seiji, Sakamoto Keisuke, Ichiki Katsunori
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 40, No: 7B
Kinetic modeling of relaxation phenomena after photodetachment in a rf electronegative SiH[4] discharge
Yan M., Bogaerts A., Gijbels R., Goedheer W. J.
Phys. Rev. A: At. Mol. Opt. Phys., Vol: 2, No: 2
Effect of an internal rotating current on low-frequency inductively coupled plasmas
Tsakadze E. L., Ostrikov K. N., Xu S., Jones I. R., Storer R., Yu M. Y., Lee S.
Phys. Rev. A: At. Mol. Opt. Phys., Vol: 4, No: 2
Relaxation of the electron energy distribution function in the afterglow of a N[2] microwave discharge including space-charge field effects
Guerra V., Sa P. A., Loureiro J.
Phys. Rev. A: At. Mol. Opt. Phys., Vol: 4, No: 2
Nonlinear resonances of particles in a dusty plasma sheath
Zafiu C., Melzer A., Piel A.
Phys. Rev. A: At. Mol. Opt. Phys., Vol: 6, No: 2
Self-excited vertical oscillations in an rf-discharge dusty plasma
Samarian A. A., James B. W., Vladimirov S. V., Cramer N. F.
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 64, No: 2
Vertical Pairing of Identical Particles Suspended in the Plasma Sheath
Steinberg V., Sutterlin R., Ivlev A. V., Morfill G.
Phys. Rev. Lett., Vol: 86, No: 20
Collisionless Electron Heating by Capacitive rf Sheaths
Gozadinos G., Turner M. M., Vender D.
Phys. Rev. Lett., Vol: 87, No: 13
Deposition of diamondlike carbon film and mass spectroemtry measurement in CH[4]/N[2] RF plasma
Nutsukura N.
Plasma Chem. Plasma Process., Vol: 21, No: 2
Tunable diode laser absorption studies of Hydrocarbons in RF plasmas containing hexamethyldisiloxane
Ropcke J., Revalde G., Osiac M., et al.
Plasma Chem. Plasma Process., Vol: 21, No: 4
Газокинетическая температура плазмы планарного высокочастотного емкостного разряда в газовых смесях N[2]/CO[2]/He
Ажаронок В.В., Филатова И.И., Шиманович В.Д., Орлов Л.Н.
Ж. прикл. спектроскопии, Vol: 68, No: 5
Излучательные свойства СВЧ разряда, формируемого кольцевым волноводно-щелевым излучателем
Бордусов С.В.
Ж. прикл. спектроскопии, Vol: 68, No: 5
Двухзеpкальный pезонатоp для исследования СВЧ безэлектpодного pазpяда в газах высокого давления
Гpачев Л.П., Есаков И.И., Малык С.Г., Ходатаев К.В.
Ж. техн. физ., Vol: 71, No: 6
Процессы разрушения поверхности электрода в плазме высокочастотного разряда
Строкань Г.П.
Ж. техн. физ., Vol: 71, No: 9
Стационарный нитевидный СВЧ-разряд при высоких давлениях аргона
Сковорода А.А., Звонков А.В.
Ж. эксперим. и теор. физ., Vol: 119, No: 1
СВЧ разряд в вакууме на поверхности диэлектрика
Брижинев М.П., Голубев С.В., Дорожкина Д.С. и др.
Ж. эксперим. и теор. физ., Vol: 119, No: 6
Пространственные структуры непрерывного СВЧ разряда
Вихарев А.Л., Горбачев А.М., Иванов О.А. и др.
Ж. эксперим. и теор. физ., Vol: 120, No: 2
Математическая модель емкостного разряда с учетом ион-нейтральных столкновений
Шишкин А.Г.
Мат. моделир., Vol: 13, No: 11
Травление материалов локализованным газовым разрядом
Абрамов А.В., Абрамова Е.А., Суровцев И.С.
Письма в ЖТФ, Vol: 27, No: 3
Генерация плазменных колебаний в СВЧ-разряде низкого давления
Быстров А.М., Гильденбург В.Б.
Физ. плазмы, Vol: 27, No: 1
Кинетика тепловыделения при взаимодействии низкотемпературной кислородной плазмы с каталитически активной поверхностью
Магунов А.Н.
Физ. плазмы, Vol: 27, No: 4
Свойства приэлектродной плазмы электродного СВЧ-разряда в водороде
Лебедев Ю.А., Мокеев М.В.
Физ. плазмы, Vol: 27, No: 5
Влияние переноса резонансного излучения на характеристики ВЧ-разряда и разряда постоянного тока в смесях He-Ar-Xe
Старостин С.А., Петерс П.Дж.М., Ван-дер Пул Г. и др.
Физ. плазмы, Vol: 27, No: 5
Surface-wave sustained discharges - self-consistent modelling
Benova E.Petrova T.
Bulg. J. Phys., Vol: 27, No: 3
Parameter space for collisionless RF sheaths
Manheimer W.M.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 28, No: 2
Properties of inductively coupled plasma source with helical coll
Park J.-C., Lee J.K., Kang B.K.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 28, No: 2
Power laws for the spatial dependence of electrical parameters in the high-voltage capacitive RF sheath
Muller H., Howling A.A., Hollenstein C.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 28, No: 5
On the effects of electron gas viscosity on the interaction of microwave and magnetoactive plasma
Petrin A.B.
IEEE Trans. Plasma Sci. Pt 3, Vol: 28, No: 5
Control of plasma parameters for high-quality hydrogenated amorphous carbon growth
Azuma Kazufumi, Inaba Hiroshi, Tasaka Kenji et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 11
RF-plasma-assisted fast atom beam etching
Ono Takahito, Orimoto Norimune, Lee Seungseoup et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 12B
Effects of H[2] addition in magnetized inductively coupled C[2]F[6] plasma etching of silica aerogel film
Wang Seok-Joo, Park Hyung-Ho, Yeom Geun-Young
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 12B
Equivalent circuit model of an inductive RF discharge with a helical external coil
Yoshiki Hiroyuki
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 2A
Gap length dependence of electron energy distribution in low-pressure Ar capacitively coupled RF discharges
Kimura Takashi, Kaga Kouji, Ohe Kazuyuki
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 3A
Self-consistent particle simulation of radio frequency CF[4] discharge: Effect of gas pressure
Denpoh Kazuki, Nanbu Kenichi
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 5A
Dependence of fluorocarbon plasma chemistry on the electron energy distribution function
Kokura Hikaru, Sugai Hideo
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 5A
New method of particle confinement time measurement in RF traps
Aramaki M., Sakawa Y., Shoji T.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 3A-3B
A new inside-type segmented coil antenna for uniformity control in a large-area inductively coupled plasma
Lee Pyung-Woo, Kim Sung-Sik, Seo Sang-Hun et al.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 39, No: 6A
Nonlocal electron kinetics in a planar inductive helium discharge
Seo Sang-Hun, Chung Chin-Wook, Hong Jung-In, Chang Hong-Young
Phys. Rev. E: Stat. Nonlinear Soft Matter Phys., Vol: 62, No: 4
Bistability and ysteresis in inductively coupled plasmas
Ostrikov K.N., Xu S., Lee S.
Phys. scr., Vol: 62, No: 2-3
Reaction mechanisms in both a CCl[2]F[2]/O[2]/Ar and a CCl[2]F[2]/H[2]/Ar RF plasma environment
Wang Y.-F., Lee W.-J., Chen C.-Y. et al.
Plasma Chem. Plasma Process., Vol: 20, No: 4
The influence of weldpool surface shape on the distribution of arc current density
Sun Jun-sherng, Wu Chuan-song
Acta phys. sin., Vol: 49, No: 12
Наблюдение циркулярного дихроизма ансамбля триплетных метастабильных атомов гелия в Na-He газоразрядной плазме при лазерной оптической ориентации атомов натрия
Дмитриев С.П., Доватор Н.А., Житников Р.А. и др.
Ж. техн. физ., Vol: 70, No: 1
Относительная плотность приэлектродных электронных пучков в плазме емкостного ВЧ-разряда
Ковалевский В.Л., Савинов В.П., Сингаевский И.Ф.
Изв. РАН. Сер. физ., Vol: 64, No: 7
Зависимость электронного энергетического спектра приэлектродной плазмы высокочастного разряда низкого давления от рода газа
Александров А.Ф., Савинов В.П., Сингаевский И.Ф.
Изв. РАН. Сер. физ., Vol: 64, No: 7
Стационарные состояния ВЧ индукционного разряда низкого давления вблизи порога погасания
Зыков А.В., Положий К.И.
Письма в ЖТФ, Vol: 26, No: 11
О структуре неравновесного электродного СВЧ-разряда в азоте
Лебедев Ю.А., Мокеев М.В.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 38, No: 3
Зондовое исследование структуры электронного СВЧ-разряда в азоте
Бардос Л., Лебедев Ю.А.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 38, No: 4
Двухтемпературная модель баланса энергии плазмы высокочастотного индукционного разряда вбилизи оси плазменного сгустка
Герасимов А.В., Кирпичников А.П.
Теплофиз. высок. температур, Vol: 38, No: 5
Измерение температуры газа во фторсодержащей плазме ВЧ-разряда методом сканирующей калориметрии
Магунов А.Н., Лукин О.В.
Физ. плазмы, Vol: 26, No: 4
Численное исследование СВЧ-разряда на волне типа H[10]
Кайрыев Н.Ж., Кулумбаев Э.Б., Лелевкин В.М.
Физ. плазмы, Vol: 26, No: 5
Ion charge state distribution in plasma of electron cyclotron resonance discharge sustained by powerful millimeter wave radiation
Golubev S.V., Razin S.V., Zorin V.G.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Off-line efficiency measurements of the microwave discharge source (MIDAS) at the Laboratorio Nazionale del Sud
Gammino S., Ciavola G., Celona L., Torrisi L., Castro M., Chines F., Marletta S., Messina E., Qin J., Wang Z.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
A microwave driven off-line ion source for ISAC at TRIUMF
Jayamanna K., Cojocaru G., Dombsky M., Kuo T., Laxdal R., McDonald M., Schmor P.W., Yuan D., Zyuzin A.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Thirty-five centimeter diameter radio frequency ion-beam source
Kanarov V., Hayes A.V., Yevtukhov R., Vidinsky B., Navy A.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Large-area radio frequency plasma sorces for fusion applications
Kraus W., Speth E., Feist J.-H., Frank P., Heinemann B., Riedl R., Trainham R., Jacquot C.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Microwave plasma source for the negative hydrogen ion production
Mozjetchkov M., Takanashi T., Oka Y., Tsumori K., Osakabe M., Kaneko O., Takeiri Y., Kuroda T.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Radio frequency driven multicusp sources (invited)
Leung Ka-Ngo
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Development of a high-current microwave ion source for Korean Multipurposed Accelerator (abstract)
Hwang Y.S., Hong I.S., Kim H.J., Eom G.S., Cho Y.S., Choi B.H.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Conceptual design of a helicon ion source for high-current dc accelerators (abstract)
Hwang Y.S., Hong I.S., Eom G.S.
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
A design study for a holey-plate structure surface-wave ion source
Yoshida Yoshikazu
Rev. Sci. Instrum. , Vol: 2, No: Pt 2
Chaotic fluctuations and a plasma density change at the beginning of microwave discharges
Kaga J., Kogoshi S.
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, Vol: 1, No: A/B